你是否曾經想過，我們的半導體晶圓在生產過程中會遇到良率下降的問題？良率下降不僅意味著生產成本的增加，更意味著我們失去了一次創新的機會。而這個問題，其實與清洗的設備、液體純度、顆粒物、金屬離子等都有關。
在半導體的生產過程中，清洗是必不可少的環節。從硅片制造開始到芯片封裝，晶圓有30%-40%的時間處于清洗。清洗可以去除晶圓表面的污垢、顆粒物和金屬離子等雜質，從而確保產品的質量和性能。在清洗過程中，如果清洗液的純度不夠高，或者清洗設備的技術不夠先進，不僅很難徹底去除這些雜質，還會析析出或形成新的污染物，對晶圓造成損傷。
凱磁醫療的全磁懸浮潔凈泵采用了先進的全磁懸浮技術的潔凈泵，利用磁場力使槳葉懸浮于空氣中，并通過磁場控制和每秒數萬次的高頻率監測，使槳葉實現穩定懸浮和高速旋轉，從而驅動泵內液體穩定地輸送。這種無接觸、無磨損的技術不僅可以保證液體的純度。其次，高純度材料的過流組件，確保在液體輸送過程中不會析出污染物，有效防止顆粒物和金屬離子的引入，提高制程品良率。
此外，半導體晶圓的清洗還需要考慮到各種因素，如流量、壓力等等。而全磁懸浮潔凈泵可以通過精確控制這些參數，實現對晶圓表面進行高效、均勻的清洗。這不僅可以提高產品的良率，還能夠縮短生產周期，降低生產成本。
凱磁醫療的全磁懸浮潔凈泵作為一種先進的清洗設備，在半導體晶圓的生產過程中以其獨特優勢扮演著重要的角色。不僅能夠實現晶圓高效、高純度的清洗，確保生產工藝，還能夠提高產品的良率，降低生產成本。
